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株式会社 東設

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脱気システム

Livalleyシリーズ

幅広い用途に対応した弊社標準の脱気システムです。主にSタイプ(薬液対応)とWタイプ(純水対応)の2種類があります。
■超音波洗浄、めっき前処理、レジスト剥離、リフトオフ、耐食性向上目的といった幅広い用途に対応します。
■ご使用対象洗浄機、洗浄液の目的及び目標があれば、最も合理的な薬液、材料での洗浄方法と洗浄装置の提案が可能です。
■界面活性剤使用のケースに対しても目的に応じた薬品提案と装置展開をご提案します。
■界面活性剤の仕様を廃止するケースでも、純粋洗浄のパフォーマンスを向上させます。
■割れや欠けなどの入りやすいデバイスでの超音波効率向上も最適な条件設定により、限界までパフォーマンスを向上させます。
■純水製造装置の改造の様なハイコスト、長時間改造は不要。既存設備への設置のみで短時間で高効率なパフォーマンスを実現します。■設置面積も小さく、装置への横付けも可能。さらに、配管工事と100V電源供給のみにより、工事期間も数時間で可能です。
■弊社プロセスエンジニアによる、お客様ラインでの装置立上げ・プロセス立上げのお手伝いをさせて頂きます。
フットプリント

Livalley フットプリント(stand aloneタイプ)

Livalleyシリーズ一覧

純水系

純水洗浄/リンス

超音波アシスト効率改善

(洗浄・剥離・エッチング)

超音波処理高効率化

薬品系

界面活性剤洗浄

有機・無機アルカリ洗浄

酸洗浄

純水系

濡れ性コントロール

脱気水浸漬

めっき前処理

脱気水浸漬

脱気水前処理

脱気水ノズル

脱気水浸漬(超音波アシスト)

脱気純水ノズル

脱気水ノズル(パドル処理)

脱気水ノズル超音波アシスト

めっき前処理対応システム詳細

システム・ユニット搭載領域
希硫酸浸漬
希硫酸パドル処理
めっき液浸漬
脱気水ノズル超音波アシスト
脱気水ノズル
脱気水浸漬
真空脱気処理
超音波脱気処理
めっき液中超音波処理
薬液処理
超音波アシスト
脱気水
純水処理
薬液処理
ウェット処理
O2アッシング
フッ素系ガスアッシング
Arプラズマ
H2N2プラズマ
UV/O3処理
大気圧プラズマ処理
活性ガス処理
不活性ガス処理
大気圧処理装置
大気圧処理装置
真空装置
ドライ処理

超音波効率コントロールデータ

超音波と純水品質の概念

モジュールの真空度を上げることにより溶存酸素量を減少

溶存酸素量を減らす事により超音波のエネルギー伝達効率を向上

溶存酸素量をコントロールしパーティクル除去効率とワークダメージを最適に調整

溶存酸素量と各特性の概念

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