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めっき装置
東設のめっき装置とは？
薬液を問わず、お客様の目的に応じたタイプのめっき装置及びプロセスのご提案が可能です。
受注装置のほとんどがオリジナルな仕様となり、御社のご希望の装置を提供できます。
4種類の
めっき方式
目的に応じためっき方式とプロセスもサポート
膜厚均一性
±2%以内
フェイスアップ方式
全組成対応
磁性膜めっき
全組成に対応した
めっき液作製、成膜
最適ソリューションの提供
目的に応じたオリジナル
仕様の装置提案
HDD業界
全社に納入
磁性膜めっき装置
目的に応じた4種類のめっき方式の提案及びプロセスサポート
弊社にはお客様の目的に応じた4種類のめっき方式のご提案が可能で、弊社プロセスエンジニアによる
プロセスサポートも行っております。プロセスサポートの概要はこちらから。
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用途
方式
構造
特徴
めっき材料
対象ワーク
フェイスアップ式
フェイスダウン式
縦型ディップ式
ライズアップ式
膜厚分布が良い
合金の組成安定性に優れる
高腐食性めっき膜への対応
カセットtoカセット搬送
フットプリントが小さい
カセットtoカセット搬送
フットプリントが小さい
角基板、大型基板対応
ワークの裏面端面保護不要
カセットtoカセット搬送
磁性材料、Cu、Ni、Au 他
Cu、Ni、Au 他
Cu、Ni、Au 他
無電解、CoWB、Cu、Ni、Au、Pd 他
ウエハ（4", 6", 8", 12"）
ウエハ（4", 6", 8", 12"）
ウエハ（4", 6", 8", 12"）
角基板(Rigid, Flexible)
ウエハ（4", 6", 8", 12"）
電解めっき
無電解めっき
製品一覧
弊社には下記メインの4種類のめっき装置があるだけでなく、さらに研究開発試作用めっき装置も複数台所有しており、めっきプロセスの研究開発、新規製品の試作、少量生産など、お客様の用途に応じた装置のご提案をさせて頂きます。
・幅広い電解めっき装置の選択肢
・プロセスに合ったカスタマイズ
・4～12 inchまでの様々なウエハに対応
・フェイスアップ、フェイスダウン式、
縦型ディップ式、ライズアップ式
・全自動、半自動、手動、卓上型
全組成対応の磁性膜めっき
■適用デバイスに合わせて磁性膜の提案が可能（特性及び組成）
（例：磁気センサー用軟磁性膜、HDD磁気ヘッド用高Bs膜 etc..）
■Ni、Fe、Coの2元及び3元合金の全組成をめっき液作製、成膜が可能。
■P、Mo、Pd等の合金化可能
■磁気特性の評価方法、量産時の管理方法等、相談可能。
HDD業界全社に磁性膜めっき装置の納入実績あり
HDD用磁性材料の分野で培ったユニークな技術をベースに、近年では
スマートフォン、タブレットなどの携帯端末機器に搭載される小型電子部品の分野や
半導体、MEMS分野のめっき用途にて幅広くご採用を頂いております。
低消費電力デバイス
無給電デバイス
磁気センサ、水晶振動子等の小型電子部品
車載センサ
車載モジュール
車載LED
SiC, GaN等の次世代パワーデバイス
HDD
CPU
通信デバイス
メモリ等のサーバー機器デバイス
異種デバイス混載型エッジコンピューティング
SAWフィルター
MEMS
有機EL
東設の目指す電子デバイス関連市場
東設のめっき装置ご提案ビジネスモデル
お客様からご注文頂いためっき装置及びプロセスの立上げを弊社プロセスエンジニアを派遣して協力にサポート。実験及び実験データのご提供も勿論可能。
STAGE
04
装置・プロセス立上げ
STAGE
03
お客様からのヒアリング内容に基づいて、めっき装置の最終提案をする。
最も高効率、コストパフォーマンスな価格提案を実施。プロセスサポートにも対応。
めっき装置仕様提案
スペック内容・要求確認
お客様からお問い合わせを頂き、スペック内容・要求を確認。その内容に基づき、
対象めっき、その他条件に伴う諸条件の提案（めっき方式、めっき液の調合及び選定等）
STAGE
01
デモ実験・データ提供
STAGE
02
お客様からご提供頂いたウエハに対し、
デモ装置設置、実験及びデータ提供を行う。
