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脱気・脱泡・気泡除去のちから、
すぐに体験できます

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脱気システム・脱気装置 特設サイト

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半導体・電子部品
​食品 医療 美容

水や薬液中に存在する酸素や気泡は​様々な業界において、製品の製造工程や検査工程で問題となっています。

​​東設の脱気システム・脱気装置Livalleyはそのような気泡の原因を元から除去します。

製品一覧

東設の脱気システムは液体に溶け込んでいるガス成分 (窒素、酸素等)を減圧や気液分離方式でコントロールすることにより、お客様の抱える生産プロセスを改善できるシステムです。お客様の給液ラインに設置する付帯設備にてワンパスで超高効率脱気を実現します。

脱気システム1

Stand-Alone type

LV-SCW25S (純水), LV-SCC10S (薬液)

基本仕様

■ 液種     :純水、薬液

■ 推奨流量   :純水(25L/min),薬液(10L/min)

■ 真空ポンプ      :あり

■ 使用温度   :Max.40

■ サイズ    :450(W)x320(D)x1465(H)

※標準仕様外のご要求につきましては、お気軽にご相談ください。

(大流量、高温対応等)
※オプションで濾過フィルタ、溶存酸素計、送液ポンプの追加が可能です。

脱気システム2

Compact type

LV-SCW5K (純水), LV-SCC5K (薬液)

基本仕様

■ 液種     :純水、薬液

■ 推奨流量   :純水(5L/min),薬液(5L/min)

■ 真空ポンプ      :オプション

■ 使用温度   :Max.40

■ サイズ    :180(W)x125(D)x300(H)

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気泡起因の欠陥の低減

デスミア処理、無電解・電解めっき工程

深い有底ビアや深いトレンチ、疎水性の基材表面にトラップされた気泡が接液を妨げることにより発生する欠陥を、脱気水を使用した前処理で低減することができます。

パーティクル低減、洗浄性能改善

洗浄工程

超音波洗浄において、純水やアルカリ性洗浄水等の洗浄水から溶存気体成分を除去することにより、超音波アシストの効率をアップ、洗浄性能の改善を図れます。

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腐食発生の防止

CMP工程、めっき工程、レジスト剥離工程など

腐食しやすい材料(金属等)の加工後搬送中の表面給水、水中保管用に脱気システムで生成した脱気水をご使用下さい。異種金属界面のガルバニック腐食対策にも効果があります。

薬液ライフの延長

めっき工程、レジスト剥離工程など

液中から溶存酸素を取り除き、酸化由来の変質を防ぎ、薬液ライフを延長できます!

応用例:Auめっき液、磁性材料めっき液、アミン系レジスト剥離液、等

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気泡除去・酸化防止・長寿命化

食品 医療 化粧品

1.超音波内視鏡、顕微鏡の誤検出・ノイズ原因の気泡除去

2.高感度カメラによる流体可視化中の誤検出原因の気泡除去

3.液中パーティクルカウンターの誤検出・ノイズ原因の気泡除去

4.ゼラチン・コラーゲン等、高粘度液の気泡除去

​5.飲料容器の洗浄工程での洗浄水の脱気水置き換えによる酸化防止

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