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マイクロエレクトロニクスシンポジウム(MES2025)からTSV形成におけるめっきプロセスに関する発表をご紹介
エレクトロニクス実装学会主催の「マイクロエレクトロニクスシンポジウム(MES)」が9月3〜5日に大阪大学中ノ島センターで開催され、560名が参加した。弊社関連の注目研究として、まず産総研・NECによる量子コンピューター用TSV技術が紹介された。当社のめっき装置が超電導量子アニーリング回路製造に貢献し、空洞共振モード抑制に成功。もう一つは関西大学のCoMn無電解めっき技術で、Cu拡散を抑制し、TSV内部に均一なバリア膜形成を実現した研究。いずれも大規模量子回路や3D半導体の基盤技術として期待され、当社は今後も先端実装技術の発展に貢献していく方針です。
6 日前
読了時間: 6分
【ICEP2025参加レポート】半導体先端パッケージングの潮流に乗る!東設のめっき装置技術開発の取り組み
こんにちは、営業部のTZです。 2025年4月15日~18日に長野市で開催された国際学会ICEP(International Conference on Electronics Packaging)に参加させていただきました!...
6月6日
読了時間: 5分
他社製レジスト剥離装置用薬液供給回収ユニットを弊社で設計、製作しました
こんにちは、営業部のTZです。 この度、北陸エリアの某電子部品メーカー様の工場に、他社製レジスト剥離装置に付帯する薬液供給回収ユニットを納入いたしました。導入した装置のメーカーがすでに存在しておらず、弊社にて装置の設計、製作に対応させていただきました。...
2021年2月19日
読了時間: 3分
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