top of page

BLOG
ブログ
検索


プローブカードとロジウム(Rh)めっき――メモリ高積層化が招くテスト工程の難度上昇
こんにちは、営業部のTZです。 東設は、ウエハ・基板向けの電解めっき装置を、先端電子デバイスの製造現場へ数多く納入してきました。 近年拡大する生成AIへの投資は、弊社のめっき装置ビジネスにも大きな影響を及ぼしています。そこで本シリーズでは、市場の視点から、東設のめっき装置が果たす役割をご紹介します。 この記事では、HBMの高積層化・多ピン化で重要性が増すプローブカードと、プローブピン形成用ロジウムめっきについてお届けします。ご参考になれば幸いです。 HBM4の量産が本格化する2026年、半導体製造のなかで、あらためて重要性が高まっている工程があります。それが、チップの動作を出荷前に確認する「テスト工程」です。 メモリが高積層化・多ピン化するほど、テストは難しくなります。本記事では、テスト工程で使われるプローブカードの市場動向と、その微細接点を支えるRh(ロジウム)めっきの役割を解説します。 本記事は、AI需要連鎖とめっき技術の関係を俯瞰する「総論編」から分岐した詳細記事です。 この記事のポイント HBMの高積層化・多ピン化により、プローブカードの
9月29日読了時間: 7分


先端パッケージングとフェイスアップ式めっき――TSV・RDL・マイクロバンプの膜厚均一性
こんにちは、営業部のTZです。 東設は、ウエハ・基板向けの電解めっき装置を、先端電子デバイスの製造現場へ数多く納入してきました。 近年拡大する生成AIへの投資は、弊社のめっき装置ビジネスにも大きな影響を及ぼしています。 そこで本シリーズでは、市場の視点から、東設のめっき装置が果たす役割をご紹介します。 この記事では、チップレット・3次元半導体の拡大で注目される先端パッケージングと、微細配線電極形成用銅めっき、フェイスアップ式についてお届けします。ご参考になれば幸いです。 かつて、半導体の価値創出は「前工程がすべて」と言われてきました。微細化を競う前工程が、性能向上の主戦場だったためです。 しかし現在、その重心は後工程にも広がっています。複数のチップを高密度に接続する先端パッケージングは、AIチップの性能を左右する重要な技術として存在感を高めています。 本記事では、先端パッケージング市場の成長と、配線形成工程でフェイスアップ式めっきが果たす役割を解説します。AI需要連鎖とめっき技術の関係を俯瞰する「総論編」の詳細記事です。 この記事のポイント...
9月29日読了時間: 7分


AIインフラ投資で再評価されるめっき技術――HBM・HDD・先端パッケージングをつなぐ東設の技術領域
こんにちは、営業部のTZです。 aiインフラ投資で再評価されるめっき技術――hbm・hdd・先端パッケージングをつなぐ東設の技術領域東設は、ウエハ・基板向けの電解めっき装置を、先端電子デバイスの製造現場へ数多く納入してきました。 近年拡大する生成AIへの投資は、弊社のめっき装置ビジネスにも大きな影響を及ぼしています。 そこで本シリーズでは、市場の視点から、東設のめっき装置が果たす役割をご紹介します。 この記事では、生成AI投資がHBM、HDD(ハードディスクドライブ)、先端パッケージング、検査工程へ広がるなかで、東設のめっき装置が担う役割についてお届けします。ご参考になれば幸いです。 生成AIへの投資拡大を背景に、半導体産業は大きな転換期を迎えています。 注目されるのは、最先端ロジックチップだけではありません。 メモリ、ストレージ、先端パッケージング、さらに検査工程に至るまで、製造プロセスのさまざまな場面で「めっき」技術の重要性が高まっています。 本記事では、AIインフラ投資が生み出す需要の広がりを俯瞰します。 そのうえで、各工程の接点を支えるめ
9月29日読了時間: 7分


AI時代のHDD・TMRと磁性めっき――再評価される磁気デバイス製造
こんにちは、営業部のTZです。 東設は、ウエハ・基板向けの電解めっき装置を、先端電子デバイスの製造現場へ数多く納入してきました。 近年拡大する生成AIへの投資は、弊社のめっき装置ビジネスにも大きな影響を及ぼしています。そこで本シリーズでは、市場の視点から、東設のめっき装置が果たす役割をご紹介します。 この記事では、AIデータセンター需要で再評価されるHDDと、磁気センサへ広がる磁性薄膜めっきについてお届けします。ご参考になれば幸いです。 「HDDは古い技術」と考えられることがあります。しかし、AI時代の需給データは、その見方を大きく変えつつあります。 一方、iPhoneのカメラに搭載される手ブレ補正用のTMRセンサーも、HDDと同じ「磁性めっき」という技術軸につながっています。 本記事では、HDDとTMRセンサーという二つの磁気デバイスの成長を、磁性めっきという共通の視点から解説します。AI需要連鎖とめっき技術の関係を俯瞰する「総論編」の詳細記事です。 この記事のポイント AI向けデータセンターの容量需要が、ニアラインHDDの需要を押し上げていま
9月29日読了時間: 7分


電子デバイスの研究開発に特化した東設のめっき装置製品シリーズ「Tosetz R&D Tool」
こんにちは、営業部のTZです。
この記事では、電子デバイス製品の研究開発を強力にサポートする東設の研究開発用めっき装置製品シリーズ「Tosetz R&D Tool」をご紹介します。
半導体デバイスの開発競争が激化する現在、「新製品の市場投入までのスピード」がこれまで以上に重要な価値となっています。
特にAI、データセンター向け2.5D/3D-IC、チップレット、量子コンピュータ、IoT、次世代パワーデバイスなどの先端領域では、研究開発フェーズにおける、スピーディーな試作・検証が、企業の競争力を大きく左右します。
そのため、企業の研究開発部門や、大学の研究室では、短期間でプロトタイプの試作したい、少量品でも安定したプロセスを確立したい、実験条件を柔軟に変えられる装置がほしい
というニーズが急速に高まっています。
このような背景から、東設への開発用めっき装置のお問い合わせが年々増えています。
東設では現在、大型の角基板にも対応できる、微細配線の形成が可能な実験・試作機の開発にも取り組んでいます。
2025年12月4日読了時間: 6分


【ICEP2025参加レポート】半導体先端パッケージングの潮流に乗る!東設のめっき装置技術開発の取り組み
こんにちは、営業部のTZです。 2025年4月15日~18日に長野市で開催された国際学会ICEP(International Conference on Electronics Packaging)に参加させていただきました!...
2025年6月6日読了時間: 5分


プロセスサポートチームがスムーズな量産体制構築を強力にバックアップ
こんにちは、営業部のTZです。 弊社は半導体・電子部品・液晶関連のお客様をメインに開発型装置ベンチャーとして様々なお客様に装置を提供しておりますが、お客様のご要求を今まで以上に正確に把握するため、プロセスエンジニアの採用に力を入れて参りました。...
2025年1月31日読了時間: 5分


磁気センサ用途に使われる磁性膜めっき技術について
こんにちは、営業部のTZです。 弊社のめっき技術は磁性膜めっきから始まっており、最も得意とする技術ですが、近年磁気センサを扱うお客様からのお引合いが急増しています。今回は、磁性薄膜を電解めっきで成膜するプロセス用途の磁性めっき装置が使われている電子デバイス製品分野についてご紹介します。 磁気センサの種類とその原理、用途について 「磁気センサ」は磁場の変化を検出し、それを電気信号に変換するデバイスで、それぞれの特性に応じて異なるアプリケーションで使用されています。センサの選択は、具体的な要件や環境に依存します。 1. ホール効果センサ - 原理: ホール効果センサは、電流が流れる導体に垂直な方向に磁場がかかるとその導体に生じるホール効果(電荷の偏向)を検出する原理を利用しています。 - 用途: モーターコントロール、位置検出、磁場の測定などの用途で使用されます。 2.磁気抵抗センサ (GMR, TMR) - 原理: 磁気抵抗センサは、磁場が変化するとセンサの抵抗が変化する原理を利用しています。巨大磁気抵抗(GMR)およびトンネル磁
2024年2月23日読了時間: 4分


これからの電子デバイスの高度な実装に必要とされる「はんだめっき」のお話
こんにちは、研究開発部のTRです。 本記事では、近年の電子デバイス製品の製造、実装にて要求されている、配線の微細化、高密度化に対し、弊社の電解めっき法によるはんだ形成プロセスのお話をさせていただこうと思います。 電子デバイスの実装に必要な「はんだ」とは?...
2022年6月18日読了時間: 4分


HPに「保守改造サービス」のページを追加しました
こんにちは、営業部のTZです。 この度、HPのメニューに新ページ「保守改造サービス」を追加しました! 既設装置のメーカーがすでに廃業している、設備面で技術的な課題を抱えているが相談できるメーカーがいない、パーツやメンテナンスコストが高い、対応が遅いなど…、製造元に対応を依頼...
2021年5月21日読了時間: 3分


国内の電子部品メーカー様から380mm角基板両面めっき装置を受注しました
こんにちは、営業部のTZです。 この度、国内の某電子部品メーカー様の量産ライン向けに380mm角基板の自動搬送式両面電解めっき装置のご注文を頂きました。 電子部品のめっき配線や電極の形成工程では、±10%以内の高い膜厚均一性が求められますが、従来の大型基板用めっき装置では実...
2021年3月12日読了時間: 3分


シリコン貫通電極(TSV)形成に貢献するめっき技術開発のお話
こんにちは、研究開発部のTRです。 本記事では、次世代電子デバイスのキーテクノロジーであるシリコン貫通電極(TSV)形成を低コストで実現させる弊社めっき技術開発のお話をさせていただこうと思います。 チップ間の配線距離の最短化に必要なテクノロジーとなるシリコン貫通電極(TSV...
2021年2月26日読了時間: 6分


他社製レジスト剥離装置用薬液供給回収ユニットを弊社で設計、製作しました
こんにちは、営業部のTZです。 この度、北陸エリアの某電子部品メーカー様の工場に、他社製レジスト剥離装置に付帯する薬液供給回収ユニットを納入いたしました。導入した装置のメーカーがすでに存在しておらず、弊社にて装置の設計、製作に対応させていただきました。...
2021年2月19日読了時間: 3分


米国の磁気デバイスメーカー様から複数台の磁性電解めっき装置を受注しました
こんにちは、営業部のTZです。 この度、米国の磁気デバイスメーカー様から複数台の磁性電解めっき装置のご注文を頂きました。 弊社はサブミクロン~数ミクロンオーダーの磁性合金めっき薄膜形成用途のめっき装置メーカーとして、過去数十年間にわたり、ハードディスクメーカー様向けに、フェ...
2020年7月1日読了時間: 3分

CONTACT
問い合わせ
お客様からの弊社製品、サービスに関するご相談、お問い合わせを承っております。
一度お話をお聞かせ下さい。弊社営業部が迅速にご対応致します。
電話
042-519-3037
【受付時間】月~金 9:00~18:00
(土日祝・年末年始は休み)
メール
bottom of page


